
10 классических пикапов, которые являются пустой тратой денег
Sep 22, 202310 быстрых спортивных автомобилей, которые хороши для новичков
Jul 06, 202310 причин заменить устаревшую подъемную станцию погружным насосом для сухой ямы
Oct 12, 202310 причин заменить устаревшую подъемную станцию погружным насосом для сухой ямы
Mar 19, 202311 находок с витрины туристического магазина Nordstrom
Aug 19, 2023Подпись слабого
Том 12 научных отчетов, номер статьи: 9770 (2022 г.) Цитировать эту статью
1624 Доступа
5 цитат
Подробности о метриках
Сообщается об исследовании низкотемпературного магнитотранспорта тонких пленок Bi2Se3 различной толщины (40, 80 и 160 нм), нанесенных на подложки сапфира (0001), с использованием метода радиочастотного магнетронного распыления. Рентгеновские дифракционные измерения высокого разрешения показали рост ромбоэдрических пленок Bi2Se3 с ориентацией оси c {0003n} на сапфире (0001). Методом рамановской спектроскопии получены колебательные моды тонких пленок Bi2Se3 в области низких волновых чисел. Шероховатость поверхности напыленных тонких пленок Bi2Se3 на сапфировых подложках (0001) составила ~ 2,26–6,45 нм. Химическое и электронное состояние нанесенного Bi2Se3 было подтверждено данными рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии и показало образование соединения Bi2Se3. Измерения зависимости сопротивления от температуры показывают металлическую природу пленок Bi2Se3 и небольшой переход удельного сопротивления вверх при более низких температурах < 25 К. Положительное значение магнитосопротивления пленок Bi2Se3, измеренное при низких температурах (2–100 К), подтвердило бесщелевую топологию. поверхностные состояния в тонких пленках Bi2Se3. Квантовая поправка к магнитопроводимости тонких пленок в слабом магнитном поле осуществляется с использованием теории Хиками – Ларкина – Нагаоки, и расчетное значение коэффициента «α» (определяющего количество каналов проводимости) оказалось равным 0,65, 0,83 и 1,56 для пленки. толщина 40, 80 и 160 нм соответственно. Эти наблюдения показывают, что верхнее и нижнее поверхностные состояния связаны с объемными состояниями, а механизм проводимости в тонких пленках Bi2Se3 меняется в зависимости от толщины пленки.
Топологические изоляторы (ТИ) уже более десяти лет являются предметом большого интереса из-за их уникальных свойств, обусловленных наличием симметрии обращения времени и сильной спин-орбитальной связи, которые обусловливают исключительные свойства, которые используются в различных приложениях и устройствах. такие как спинтроника, квантовые вычисления и квантовый аномальный эффект Холла1,2,3,4. Это класс квантовой материи, объем которой является изолирующим, а поверхность состоит из нечетного числа конусов Дирака. ТИ демонстрируют экзотические свойства, такие как защита от обратного рассеяния от немагнитных примесей, а также дефекты, которые не изменяют симметрию обращения времени (TRS) из-за присутствия Π-фазы Берри на поверхности Ферми4,5. Множество экспериментов по магнитотранспорту показали, что поверхностное состояние TI топологически защищено TRS, т.е. их нелегко возмутить немагнитными возмущениями или дефектами6,7,8,9,10. Однако TRS можно подавить в перпендикулярном магнитном поле, что приводит к положительному магнитосопротивлению (MR), которое представляет собой интерференционное явление, возникающее из-за двумерных (2D) механизмов квантовой интерференции в тонких пленках и наноустройствах, известных как слабое магнитосопротивление (MR). эффект антилокализации (WAL)11.
Среди топологических изоляторов Bi2Se3 имеет ширину запрещенной зоны ~ 0,3 эВ и простую электронную зонную структуру, которая состоит из одного поверхностного состояния конуса Дирака с нулевой или незначительной запрещенной зоной в объемной форме и, таким образом, является идеальным материалом для TIs12,13,14. Однако основная часть Bi2Se3 содержит вакансии селена, которые опускают уровень Ферми в объемную зону проводимости, придавая тонкую объемную проводимость15. Как правило, тонкие пленки обеспечивают больший контроль над вкладом объемных носителей в снижение объемной проводимости, и, следовательно, их изготовление представляет большой интерес для изучения фундаментальных исследований и практического применения. Было обнаружено, что пленки и наноленты Bi2Se3 демонстрируют ненасыщенное линейное магнитосопротивление (LMR) под воздействием сильного поля, которое возникает из-за линейной поверхностной дисперсии Дирака15. Ранее использовались различные методы, такие как термическое испарение, импульсное лазерное осаждение и молекулярно-лучевой эпитаксиальный рост (MBE), однако подбор толщины пленки был большой проблемой. С другой стороны, магнетронное распыление обеспечивает точный контроль толщины при равномерной и высокой скорости осаждения для получения тонких пленок большой площади. Согласно существующей литературе, доступны ограниченные сообщения о тонких пленках Bi2Se3, выращенных магнетронным распылением для изучения поведения WAL в напыленной пленке14,22,23. Вклад поверхностных состояний и объемных носителей в общий транспорт сильно зависит от толщины пленки16. Обычно объемные состояния Bi2Se3 оказываются проводящими из-за некоторых присущих им дефектов или естественного легирования, которое вызывает эффект связи между состояниями верхней и нижней поверхностей16. Обнаружено, что эффект WAL, наблюдаемый в слабых магнитных полях, подавляется в более толстых пленках, поскольку поверхностному эффекту препятствует основная объемная проводимость пленки из-за меньшего отношения поверхности к объему в толстых пленках. Данные о магнитопроводимости в виде каспа в более низких полях были сопоставлены с квантовой интерференционной моделью Хиками-Ларкина-Нагаока (HLN) для определения количества независимых каналов проводимости (α) в этих пленках15,16,17,18,19,20. В литературе указано, что значение α равно 0,5 для одного когерентного транспортного канала и 1 для двух когерентных транспортных каналов (верхнего и нижнего), полностью независимых друг от друга. Могут быть два проводящих поверхностных канала, которые частично связаны проводящим объемом, если значение α лежит между 0,5 и 1. И α больше 1 указывает на полное развязывание транспортного канала11,14,22. Помимо эффекта WAL, во многих системах TI также наблюдался линейный эффект MR, который также вносит вклад в общую проводимость системы и также может быть описан модифицированным уравнением HLN24.

